- Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami
Počet záznamů: 1  

Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami

  1. 1.
    SYSNO0567281
    NázevTenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami
    Překlad názvuThin films for photovoltaics deposited by plasma chemistry methods
    Tvůrce(i) Fejfar, Antonín (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok. Zpravodaj ČVS, 30, 1. S. 2-6. - Praha : Česká Vakuová Společnost, 2022 / Drbohlav J.
    Konference LŠVT - Letní škola vakuové techniky 2022, 30.05.2022 - 02.06.2022, Bítov
    Druh dok.Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Grant LM2018110 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_026/0008382, CZ - Česká republika
    EF16_026/0008382 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    Jazyk dok.cze
    Země vyd.CZ
    Klíč.slova thin films * deposition * plasma chemistry * photovoltaics
    Trvalý linkhttps://hdl.handle.net/11104/0338552
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.