Počet záznamů: 1
Investigations on the CuI thin films production by pulsed laser deposition
- 1.
SYSNO ASEP 0562426 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Investigations on the CuI thin films production by pulsed laser deposition Tvůrce(i) Irimiciuc, Stefan (FZU-D) ORCID
Chertopalov, Sergii (FZU-D) ORCID
Buryi, Maksym (FZU-D) RID, ORCID
Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
Vondráček, Martin (FZU-D) RID, ORCID
Fekete, Ladislav (FZU-D) RID, ORCID
Novotný, Michal (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCIDCelkový počet autorů 8 Číslo článku 154868 Zdroj.dok. Applied Surface Science. - : Elsevier - ISSN 0169-4332
Roč. 606, Dec (2022)Poč.str. 9 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Klíč. slova Copper iodine thin film ; pulsed laser deposition ; Langmuir probe ; vacancies control Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Obor OECD Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) CEP GA20-21069S GA ČR - Grantová agentura ČR EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Způsob publikování Omezený přístup Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000860232400005 EID SCOPUS 85138777636 DOI 10.1016/j.apsusc.2022.154868 Anotace CuI thin films were deposited by pulsed laser deposition (PLD) in various Ar atmospheres. Control over the morphology, structure and defect nature of the deposited films was attempted by in-situ plasma diagnostics. The deposited films presented stoichiometric crystallinity on the full range of experimental condition with no residual oxidation, as per XRD and XPS measurements. Band gap tailoring was achieved by controlling the plasma ion kinetic energy with optimum conditions being defined by Cu and I ionic groups with kinetic energies surpassing 200 eV. Variation in Ar pressure allowed control over the nature of vacancies from VI + Cui to predominantly VCu. In situ plasma measurements revealed that the addition of Ar leads to the preferentially scattering of the Cu ions in the plasma which subsequently leads Cu ions energy losses. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2023 Elektronická adresa https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2022.154868
Počet záznamů: 1