Počet záznamů: 1  

SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav

    1.
    SYSNO0545141
    NázevSMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav
    Překlad názvuSMV-2021-02: Development and implementation of amplitude masks for adjustment of optomechanical systems
    Tvůrce(i) Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Kopal, Jaroslav (UPT-D)
    Vyd. údajeBrno: Meopta - optika, s.r.o., 2021
    Druh dok.Výzkumná zpráva
    Grantneveřejné zdroje
    Jazyk dok.cze
    Země vyd.CZ
    Klíč.slova e-beam lithography * lithography mask
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0321889
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.

Přijmout všeNastaveníOdmítnout vše