Počet záznamů: 1
SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav
- 1.
SYSNO ASEP 0545141 Druh ASEP V - Výzkumná zpráva Zařazení RIV V – výzkumná zpráva Název SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav Překlad názvu SMV-2021-02: Development and implementation of amplitude masks for adjustment of optomechanical systems Tvůrce(i) Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kopal, Jaroslav (UPT-D)Vyd. údaje Brno: Meopta - optika, s.r.o., 2021 Poč.str. 6 s. Forma vydání Tištěná - P Jazyk dok. cze - čeština Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova e-beam lithography ; lithography mask Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery Obor OECD Optics (including laser optics and quantum optics) Další zdroj neveřejné zdroje Anotace Byla vyvinuta, realizována a charakterizována amplitudová maska dle podkladů zadavatele. K přípravě byl použit zápis motivu v zařízení s elektronovým svazkem a související technologické operace. Parametry byly ověřeny pomocí skenování povrchu sondou. Překlad anotace An amplitude mask was developed, implemented and characterized according to the partner's documents. The notation of the motif in an electron beam device and related technological operations were used for the preparation. The parameters were verified by scanning the surface with a probe. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2022
Počet záznamů: 1