Počet záznamů: 1
Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky
- 1.
SYSNO 0544775 Název Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky Překlad názvu Special photomask for wavefront measurement of projection optics Tvůrce(i) Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kopal, Jaroslav (UPT-D)
Brunn, Ondřej (UPT-D) RID, ORCID
Fordey, T. (CZ)
Schovánek, P. (CZ)Vyd. údaje 2021 Poddruh Funkční vzorek Int.kód APL-2021-04 Technické parametry Rozměry vzorku: disk o průměru 20 mm tloušťky 0,6 mm. Mezní rozlišení vzorku: 511,36 nm. Ekonomické parametry Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz Název vlastníka Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i., Meopta - optika, s.r.o., Univerzita Palackého v Olomouci Číselná identifikace APL-2021-04 Druh dok. Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor Grant TN01000008 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova electron beam lithography * photomask Spolupracující instituce Univerzita Palackého v Olomouci, Přírodovědecká fakulta (Česká republika)
Meopta - optika, s.r.o., Přerov (Česká republika)Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0321586
Počet záznamů: 1