Počet záznamů: 1
Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky
SYS 0544775 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103230118.9 100 $a 20210712d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky 210 $d 2021 541 $a Special photomask for wavefront measurement of projection optics $z eng 610 $a electron beam lithography 610 $a photomask 700 -1
$3 cav_un_auth*0101578 $a Kolařík $b Vladimír $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $9 5 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287343 $a Krátký $b Stanislav $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $9 5 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0311793 $a Meluzín $b Petr $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $9 5 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0354831 $a Kopal $b Jaroslav $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $9 5 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0353765 $a Brunn $b Ondřej $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $9 50 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0412605 $a Fordey $b T. $y CZ $4 070 $9 20 701 -1
$3 cav_un_auth*0222265 $a Schovánek $b P. $y CZ $4 070 $9 10
Počet záznamů: 1