Počet záznamů: 1
Ion Beam Sputtering for Controlled Synthesis of Thin MAX (MXene) Phases
- 1.
SYSNO ASEP 0517818 Druh ASEP A - Abstrakt Zařazení RIV O - Ostatní Název Ion Beam Sputtering for Controlled Synthesis of Thin MAX (MXene) Phases Tvůrce(i) Horák, Pavel (UJF-V) RID, ORCID
Vacík, Jiří (UJF-V) RID, ORCID, SAI
Bakardjieva, Snejana (UACH-T) SAI, RID, ORCID
Cannavó, Antonino (UJF-V) ORCID, SAI
Ceccio, Giovanni (UJF-V) ORCID, RID, SAI
Kupčík, Jaroslav (UACH-T) SAI, RID, ORCID
Klie, R. (US)Celkový počet autorů 7 Zdroj.dok. Microscopy and Microanalysis. - : Cambridge University Press - ISSN 1431-9276
Roč. 25, S2 (2019), s. 1626-1627Poč.str. 2 s. Forma vydání Tištěná - P Akce Microscopy & Microanalysis 2019 Meeting Datum konání 04.08.2019 - 08.08.2019 Místo konání Portland Země US - Spojené státy americké Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova ion beam sputtering ; LEIF Vědní obor RIV BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače Obor OECD Nuclear physics Vědní obor RIV – spolupráce Ústav anorganické chemie - Anorganická chemie CEP LM2015056 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LTAUSA17128 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora UACH-T - RVO:61388980 ; UJF-V - RVO:61389005 DOI 10.1017/S1431927619008869 Anotace In the CANAM research infrastructure of the NPI in Rez, a new system (LEIF – Low Energy Ion Facility) has been recently assembled utilizing a new-type of a multi-CUSP ion source. It can produce ions in a broad, tunable energy range 100 eV - 35 keV with a high current up to 500 uA. This system was adapted to employ an IBS technique, and it is also used for ion irradiation/implantation (in an implantation chamber) with high fluences up to 1020 cm-2 . In the process of ion beam sputtering, the targets are mounted on a cooled Cu holder,. In the case of a multiphase composite synthesis, the target holder acquires a multi-angle form that is revolving according the required stoichiometric ratio and sputtering/deposition rates of the phases. For promotion of the phase synthesis, the substrates are fixed on a heated platform and kept at elevated temperatures. Pracoviště Ústav jaderné fyziky Kontakt Markéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228 Rok sběru 2020
Počet záznamů: 1