Počet záznamů: 1
Laserová deposice titanosilikátových povlaků na porézní titanové povrchy – vytváření Ti-Si porézních povrchů z práškových materiálů.
- 1.
SYSNO ASEP 0470092 Druh ASEP L - Prototyp, funkční vzorek Zařazení RIV G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) Poddruh RIV Funkční vzorek Název Laserová deposice titanosilikátových povlaků na porézní titanové povrchy – vytváření Ti-Si porézních povrchů z práškových materiálů. Překlad názvu Titanium-silicate Laser Deposition Coatings on Titanium Porous Surfaces - Creating Si/Ti-Porous Surfaces from Powder Materials. Tvůrce(i) Jandová, Věra (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Pola, Josef (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Křenek, T. (CZ)
Pola, M. (CZ)
Němeček, S. (CZ)
Kašparová, A. (CZ)Rok vydání 2016 Int.kód laserová ablativní deposice Technické parametry Rozhodnutí zařadit do programu projektu tuto část výzkumu bylo však především motivováno našimi novými a dosud nepublikovanými výsledky o konvenčním záhřevu směsi TiO-SiO, ze kterých vyplynulo, že v systému SiO-TiO probíhají v pevné fázi při 1000 oC strukturní změny (tvorba krystalických Ti2.5O3, Ti2O3, elementárního křemíku a intermetalika Ti5Si3) v důsledku disproporcionace SiO a difuzně řízených redox reakcí mezi TiO a SiO. Tyto změny byly prokázány XRD analýzou (obr. 1), IČ a Raman spektroskopií (obr. 2) identifikujícími výskyt SiOx (x>1) a elementárního Si a také jsou ilustrovány elementárním mapováním SEM (obr. 3) a dale I EDX -SEM analýzou mikročástic - Ti/Si atomární poměr světle modrých částic (2,7-1,6) a světle červených částic (0,1-0,3). Ekonomické parametry Funkční vzorky budou dále optimalizovány a testovány ve čtvrtém roce řešení projektu ve společnosti Prospon, s.r.o., Kladno. která je významným výrobcem implantátů a protetik v ČR. Název vlastníka Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. IČ vlastníka 67985858 Kat.výsl.dle nákl. A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Využ. jiným subjektem A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Požad. na licenč. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Číselná identifikace FV1-TA04010169 Jazyk dok. cze - čeština Země vlastníka CZ - Česká republika Klíč. slova ablation ; laser deposition ; porous layers Vědní obor RIV CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie CEP TA04010169 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Anotace V návaznosti na předchozí činnost (deposice TiOx a SiOx nanostruktur) byla v UCHP a ZČU provedena TEA CO2 a Nd:YAG laserová ablativní deposice směsi TiO a SiO, protože takový postup by mohl zkrátit dobu potřebnou na vytváření katalytických center původně plánovanými odděleně probíhajícími deposicemi TiO a SiO. Výsledky prokazují, že ablativní deposice z ekvimolární TiO-SiO směsi účinkem laseru vede k tvorbě filmů bohatých na frakci SiO, ve které je obsah TiO jen několik procent. Účinkem záření ArF laseru však dochází ke kongruentní deposici SiO-TiO filmu. Překlad anotace In relation to previous work (deposition of SiOx and TiOx nanostructures), TEA CO2 and Nd:YAG laser ablation deposition of mixture of TiO and SiO was performed in UCHP and ZČU, because such a procedure could reduce the time required to create catalytic centers originally planned for separately ongoing deposition of TiO and SiO. The results show that ablative deposition of an equimolar mixture of TiO and SiO results in the formation of films rich in SiO fraction, in which the content of TiO is only a few percent. However, there is a congruent deposition of SiO-TiO film by ArF laser radiation effect. Pracoviště Ústav chemických procesů Kontakt Eva Jirsová, jirsova@icpf.cas.cz, Tel.: 220 390 227 Rok sběru 2017
Počet záznamů: 1