Počet záznamů: 1  

The influence of silver-ion doping using ion implantation on the luminescence properties of Er–Yb silicate glasses

  1. 1.
    SYSNO ASEP0469859
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevThe influence of silver-ion doping using ion implantation on the luminescence properties of Er–Yb silicate glasses
    Tvůrce(i) Staněk, S. (CZ)
    Nekvindová, P. (CZ)
    Švecová, B. (CZ)
    Vytykáčová, S. (CZ)
    Míka, M. (CZ)
    Oswald, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Macková, Anna (UJF-V) RID, ORCID, SAI
    Malinský, Petr (UJF-V) RID, ORCID, SAI
    Špirková, J. (CZ)
    Zdroj.dok.Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. - : Elsevier - ISSN 0168-583X
    Roč. 371, Mar (2016), s. 350-354
    Poč.str.5 s.
    Akce22nd International conference on Ion Beam Analysis (IBA)
    Datum konání14.06.2015 - 19.06.2015
    Místo konáníOpatija
    ZeměHR - Chorvatsko
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.NL - Nizozemsko
    Klíč. slovaion implantation ; silicate glass ; silver ; nanoparticles ; erbium
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Vědní obor RIV – spolupráceÚstav jaderné fyziky - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
    CEPLM2015056 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GA15-01602S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271 ; UJF-V - RVO:61389005
    UT WOS000373412000070
    EID SCOPUS84960245891
    DOI10.1016/j.nimb.2015.09.078
    AnotaceA set of zinc-silicate glasses with different ratios of erbium and ytterbium was fabricated. To achieve Ag rich thin films in a sub-surface layer, ion-implantation technique at an energy of 1.2 MeV and 1.7 MeV with a fluence of 1 *1016 cm-2 was used. Changes in the spectroscopic and lasing properties of erbium ions as a function of implantation fluence of silver were studied with the aim to assess the positive effect of silver as a sensitiser of erbium luminescence.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2017
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.