Počet záznamů: 1

Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému

SYSNO	0466215
Název	Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému
Překlad názvu	Device to control deposition of thin layers in vacuum multijet plasma system
Tvůrce(i)	Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Šmíd, Jiří (FZU-D) Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID}
Vyd. údaje	2016
Vlastník	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Datum udělení vzoru	15.11.2016
Číslo vzoru	30018
Druh vzoru	U - Užitný vzor
Kategorie vzoru	E - Úřad průmyslového vlastnictví (patentový úřad ČR)
Kód vydavatele patentu	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Druh dok.	Užitný a průmyslový vzor
Grant	TF01000084 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	cze
Klíč.slova	plasma jet * thin films * hollow cathode * sputtering
URL	https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0030/uv030018.pdf
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0264578

Počet záznamů: 1