Počet záznamů: 1  

The properties of samarium-doped zinc oxide/phthalocyanine structure for optoelectronics prepared by pulsed laser deposition and organic molecular evaporation

  1. 1.
    SYSNO ASEP0461487
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevThe properties of samarium-doped zinc oxide/phthalocyanine structure for optoelectronics prepared by pulsed laser deposition and organic molecular evaporation
    Tvůrce(i) Novotný, Michal (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Marešová, Eva (FZU-D) ORCID
    Fitl, Přemysl (FZU-D) RID, ORCID
    Vlček, Jan (FZU-D) RID, ORCID
    Bergmann, M. (CZ)
    Vondráček, Martin (FZU-D) RID, ORCID
    Yatskiv, Roman (URE-Y) RID, ORCID
    Bulíř, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Hubík, Pavel (FZU-D) RID, ORCID
    Hruška, Petr (FZU-D) ORCID
    Drahokoupil, Jan (FZU-D) RID, ORCID
    Abdellaoui, N. (FR)
    Vrňata, M. (CZ)
    Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
    Číslo článku225
    Zdroj.dok.Applied Physics A - Materials Science & Processing. - : Springer - ISSN 0947-8396
    Roč. 122, č. 3 (2016), 1-8
    Poč.str.8 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.DE - Německo
    Klíč. slovasamarium-doped zinc oxide zinc/phthalocyanine deposition ; evaporation ; pulsed laser deposition ; thin films
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPLG15050 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GAP108/11/0958 GA ČR - Grantová agentura ČR
    LM2011029 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GA14-10279S GA ČR - Grantová agentura ČR
    7AMB14FR010 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271 ; URE-Y - RVO:67985882
    UT WOS000371041700084
    EID SCOPUS84959308205
    DOI10.1007/s00339-016-9759-6
    AnotaceSamarium-doped zinc oxide (ZnO:Sm)/zinc phthalocyanine (ZnPc) thin film multilayer structure was prepared by combination of pulsed laser deposition (PLD)and organic molecular evaporation (OME). ZnO:Sm thin film was grown by PLD (Nd:YAG, k = 266 nm, s = 6 ns) from Sm2O3:ZnO (1 % Sm) target in oxygen ambient at pressure of 10 and 20 Pa at room temperature on fused silica and Si(100) substrates. ZnPc thin film was deposited on ZnO:Sm layer by OME. ZnO:Sm films of c-axis-oriented hexagonal wurtzite structure and a-form ZnPc were obtained. Emission of intra-4f transition in Sm3+ ions and photoluminescence enhancement of near-band-edge emission of ZnO in ZnO:Sm/ZnPc were observed. Electrical properties were not affected by Sm3? dopant as ZnO:Sm film exhibited high electrical resistivity *5 9 104 X cm.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2017
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.