Počet záznamů: 1
Amplitudově fázová vortexová maska
- 1.
SYSNO ASEP 0449277 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Amplitudově fázová vortexová maska Překlad názvu An Amplitude-Phase Vortex Photo Mask Tvůrce(i) Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAICelkový počet autorů 7 Zdroj.dok. Sborník příspěvků multioborové konference LASER 55. - Brno : Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2015 - ISBN 978-80-87441-16-9 Rozsah stran s. 32-33 Poč.str. 2 s. Forma vydání Tištěná - P Akce LASER 55 Datum konání 21.10.2015-23.10.2015 Místo konání Třešť Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. cze - čeština Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova photo mask ; vortex beam ; e-beam lithography Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika CEP LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy TE01020233 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 Anotace Problematiku fázových masek jsme prezentovali již na předchozích ročnících této konference: počítačem generované hologramy a fázové masky pro přípravu vláken s Braggovými mřížkami. V tomto příspěvku se zaměříme na prezentaci výsledků dosažených při přípravě skleněné masky pomocí elektronové litografie, která na jedné podložce kombinuje dvě části; amplitudovou část a fázovou část vortexové masky. Obě dvě části jsou připraveny elektronovou litografií. Popis funkčních optických vlastností realizované masky by byl značně nad rámec tohoto příspěvku, a proto se připravuje k samostatné publikaci. Překlad anotace The issue of phase photo masks was presented in previous editions of this conference: computer-generated holograms and phase masks to produce fiber Bragg gratings. In this contribution, we will focus on the presentation of results achieved in the preparation of glass masks combining two parts on one substrate: the amplitude portion and the phase portion of a vortex photo mask. Both portions are prepared by electron-beam lithography. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2016
Počet záznamů: 1