Počet záznamů: 1
Some Other Gratings: Benchmarks for Large-Area E-Beam Nanopatterning
- 1.
SYSNO ASEP 0437840 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Some Other Gratings: Benchmarks for Large-Area E-Beam Nanopatterning Tvůrce(i) Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Bok, Jan (UPT-D) RID
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAICelkový počet autorů 8 Zdroj.dok. NANOCON 2014. 6th International conference proceedings. - Ostrava : TANGER, 2014 - ISBN 978-80-87294-55-0 Poč.str. 6 s. Forma vydání Nosič - C Akce NANOCON 2014. International Conference /6./ Datum konání 05.11.2014-07.11.2014 Místo konání Brno Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova e-beam writer ; optical nano structures ; diffraction gratings ; fractal gratings Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery CEP LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 UT WOS 000350636300041 Anotace E-beam lithography is a flexible technology for diffraction gratings origination. Nevertheless, requirements of the high optical quality of large area diffractive structures imply various severe challenges to e-beam delineating processes. This paper summarizes the e-beam process parameters that influence the quality of large area grating structures. Next, we propose some new methods to prepare diffraction gratings that were found to be useful for testing and benchmarking purposes. Those methods include single line gratings, labyrinth structures, fractional structures, tiling patterns, quasi regular filling structures and forked line structures. Various samples were prepared with the standard and newly developed e-beam patterning processes using both e-beam writers available: one with the Gaussian beam at 100 keV and another one with the shaped beam at 15 keV. Some of the results are presented further in this paper, their variants and parameters are discussed as well as their usefulness as benchmarking e-beam patterns for large area optical structures, elements and devices. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2015
Počet záznamů: 1