Počet záznamů: 1
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém
- 1.
SYSNO ASEP 0429387 Druh ASEP P - Patent Zařazení RIV P - Patent nebo jiný výsledek chráněný podle zvláštních právních předpisů Název Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém Překlad názvu A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma, a measuring system for implementing the method and the probe for measuring system Tvůrce(i) Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Adámek, Jiří (UFP-V) RID, ORCID
Stöckel, Jan (UFP-V) RIDRok vydání 2014 Využití jiným subj. A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Lic. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Číslo pat.spisu 304493 Datum udělení 16.04.2014 Vlastník patentu Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i - Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i Kód vydavatele patentu CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague Využití A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem Jazyk dok. cze - čeština Klíč. slova Katsumata probe ; ion flux ; ion energy distribution function ; magnetic field Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery CEP TA01010517 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 ; UFP-V - RVO:61389021 Anotace Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu diagnostikovaného plazmového objektu v měřícím systému aplikovaném na plazmochemický reaktor, který je vybaven napájecím zdrojem napojeným na výbojovou elektrodu a referenční elektrodu. Podstata vynálezu spočívá v tom, že po primárním nastavení parametrů měřicího systému pomocí proudových hodnot zdroje referenčního napětí je na sběrné elektrodě snímána volt-ampérová charakteristika iontové složky proudu vzniklého napájením výbojů a procházejícího obvodem: plazmatický objekt – sběrná elektroda – proudový převodník - zdroj referenčního napětí – referenční elektroda, z níž je vyhodnocením v řídicí a měřicí jednotce stanovena iontová distribuční funkce plazmového zdroje. Dále je podstatou vynálezu měřící systém pro provádění tohoto způsobu a konstrukce sondy pro tento měřící systém. Překlad anotace A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma diagnosed plasma object in the measuring system applied to the plasma chemical reactor, which is equipped with a power source connected to the discharge electrode and a reference electrode. Summary of the invention consists in the fact that after the primary parameters measuring system using current values of the reference voltage source is sensed on the collecting electrode volt -ampere characteristics of the ion current component generated power and discharges through the circuits: plasma object - a collecting electrode - current converter - voltage reference - the reference electrode from which the evaluation of the control and measuring unit fixed ion distribution function of the plasma source. Furthermore, the present invention provides a measuring system for implementing the method and structure of the probe for this measurement system. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2015 Elektronická adresa http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=1760204&lan=cs
Počet záznamů: 1