Počet záznamů: 1
Linear antenna microwave surface wave plasma characterization by Langmuir probe
- 1.
SYSNO ASEP 0424648 Druh ASEP A - Abstrakt Zařazení RIV Záznam nebyl označen do RIV Zařazení RIV Není vybrán druh dokumentu Název Linear antenna microwave surface wave plasma characterization by Langmuir probe Tvůrce(i) Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Babchenko, Oleg (FZU-D) RID, ORCID
Ižák, Tibor (FZU-D) RID
Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. 4 IC4N (International conference nanoparticles and nanomaterials to nanodevices and nanosystems /4./) Book of Abstracs. - Arlington : University of Texas, 2013 / Meletis E.I. ; Kanellopoulos N. ; Politis C. ; Schommers W.
S. 132-132Poč.str. 1 s. Akce IC4N 2013 International conference from nanoparticles and nanomaterials to nanodevices and nanosystems /4./ Datum konání 16.06.2013-20.06.2013 Místo konání Corfu Země GR - Řecko Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova Langmuir probe ; nanocrystalline diamond ; plasma enhanced CVD ; Raman spectroscopy ; SEM Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP TA01011740 GA TA ČR - Technologická agentura ČR LM2011026 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GAP205/12/0908 GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Anotace In the presented work we analyze a MW-SW plasma assisted CVD process during growth of different carbon forms. Spatially and time resolved Langmuir probe measurements were done to calculate plasma temperature, density of species, plasma potentials, etc. Due to a pulse modulation of MW generator measurements were done in the middle of the pulse (at 3 µs). At each of four different distances between antenna and substrate process parameters were varied according to diamond film transformation i) from poly- to nano-crystalline character, ii) from solid layer to porous structure, and iii) from lower to higher deposition speed. Significant influence by plasma temperature and density, especially for process pressures lower than 50 Pa was observed. A complex correlation between process parameters, plasma characteristics and the deposit is studied and used for explanation of different growth regimes. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2014
Počet záznamů: 1