Počet záznamů: 1
Programovatelný systém pro monitorování a řízení depozice tenkých vrstev v plazmatu
- 1.
SYSNO ASEP 0424534 Druh ASEP L - Prototyp, funkční vzorek Zařazení RIV G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) Poddruh RIV Funkční vzorek Název Programovatelný systém pro monitorování a řízení depozice tenkých vrstev v plazmatu Překlad názvu Programmable system for monitoring and control of thin film deposition plasma systems Tvůrce(i) Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCIDRok vydání 2013 Int.kód DPCS/FZÚ/2013 Technické parametry Rychlost 85 KSPS, přesnost měření je 0,024%, vstupní napětí +- 10 V Ekonomické parametry V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli automatizovaný systém pro monitorování a řízení procesu depozice tenkých vrstev v plazmatu. Laboratorní zařízení je nezbytné pro další aplikovaný výzkum Název vlastníka Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. IČ vlastníka 68378271 Kat.výsl.dle nákl. A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Využ. jiným subjektem A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Požad. na licenč. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Číselná identifikace DPCS/FZÚ/2013 Jazyk dok. cze - čeština Země vlastníka CZ - Česká republika Klíč. slova pohyb substrátu ; PC řízený Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP TA01010517 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Anotace V současné době existují komerční technologická zařízení pro automatické řízení depozičního procesu. Tato zařízení jsou určena a uzpůsobena pro konkrétní aplikaci a po instalaci k trvalému procesu výroby, respektive depozice tenkých vrstev. Dodávají se jako integrovaná součást celého systému, reaktorové nádoby, napájecích zdrojů, čerpací vakuové a napouštěcí části. Tyto systémy, kromě toho, že je problematické je snadno implementovat na systémy jiné, nekompatibilní, se vyznačují velmi vysokými náklady. Pro naše podmínky bylo nutno vyvinout podobné zřízení, které není příliš rozsáhlé, umožňuje rychlou a jednoduchou montáž k často, třeba denně se měnícím experimentům a experimentálním zařízením. V našem konkrétním případě byl hlavním požadavkem programovatelný pohyb držáku vzorků, na nichž má být deponována vrstva. Pro tyto účely byl vyvinut počítačem řízený systém, který byl nakonec rozšířen o další funkce. Překlad anotace There are currently commercial technologies for the automatic control of the deposition process. These devices are designed and tailored for the specific applications and the installation of a permanent process of production, or deposition of thin films. They are available as an integrated part of the whole system, the reactor vessel, power supplies, vacuum pumping and filling part. Moreover these systems are difficult to implement into the different systems. Incompatibles are characterized by very high costs. For our conditions, it was necessary to develop a similar equipment which is not too extensive, allows for quick and easy installation to frequently, even daily-changing experiment and experimental device. In our particular case, the main requirement programmable movement of the sample holder on which the layer is to be deposited. For these purposes has been developed computer-controlled system that was eventually expanded to include additional features. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2014
Počet záznamů: 1