Počet záznamů: 1  

Local photoconductivity of microcrystalline silicon thin films excited by 442 nm HeCd laser measured by conductive atomic force microscopy

  1. 1.
    SYSNO ASEP0386854
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevLocal photoconductivity of microcrystalline silicon thin films excited by 442 nm HeCd laser measured by conductive atomic force microscopy
    Tvůrce(i) Ledinský, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Fejfar, Antonín (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Vetushka, Aliaksi (FZU-D) RID, ORCID
    Stuchlík, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Kočka, Jan (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.Journal of Non-Crystalline Solids. - : Elsevier - ISSN 0022-3093
    Roč. 358, č. 17 (2012), s. 2082-2085
    Poč.str.5 s.
    AkceInternational Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors (ICANS) /24./
    Datum konání21.08.2011-26.08.2011
    Místo konáníNara
    ZeměJP - Japonsko
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.NL - Nizozemsko
    Klíč. slovaamorphous and nanocrystalline silicon films ; atomic force microscopy (AFM) ; local photoconductivity
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPLC06040 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    MEB061012 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    KAN400100701 GA AV ČR - Akademie věd
    CEZAV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
    UT WOS000310394700037
    EID SCOPUS84865778401
    DOI10.1016/j.jnoncrysol.2012.01.015
    AnotaceMicrocrystalline silicon (μc-Si:H) thin films were studied by photo-conductive atomic force microscopy (PC-AFM) under top side illumination by HeCd 442 nm laser and/or by scattered light of AFM detection diode. In order to make the top side illumination possible, so called “nose” type cantilevers, with the tip at the end of cantilever, were used for local photo-current map measurements. Local current intensity under different illumination is discussed mainly from a point of view of the absorption depth of the used light. Diffusion length of charge carriers ~ 300 nm was estimated from comparison of the current levels under different illumination.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2013
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.