Počet záznamů: 1  

Study of diamond film nucleation by ultrasonic seeding in different solutions

  1. 1.
    SYSNO ASEP0359679
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVZáznam nebyl označen do RIV
    Zařazení RIVNení vybrán druh dokumentu
    NázevStudy of diamond film nucleation by ultrasonic seeding in different solutions
    Tvůrce(i) Varga, M. (SK)
    Ižák, Tibor (FZU-D) RID
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Veselý, M. (SK)
    Hruška, Karel (FZU-D) RID, ORCID
    Michalka, M. (SK)
    Zdroj.dok.Extended Abstract Book of 7th Conference Solid State Surfaces and Interfaces. - Bratislava : Comenius University, 2010 / Brunner R. - ISBN 978-80-223-2938-5
    S. 61
    Poč.str.1 s.
    AkceSolid State Surfaces and Interfaces /7./
    Datum konání22.11.2010-25.11.2010
    Místo konáníSmolenice
    ZeměSK - Slovensko
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.SK - Slovensko
    Klíč. slovadiamond ; ultrasonic seeding ; nucleation ; SEM
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEZAV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
    AnotaceIn this study we have investigated the nucleation of polycrystalline diamond thin films by ultrasonic seeding on Si and SiO2 substrates. During nucleation the clean substrates were moved into ultrasonic bath and seeded by a nanodiamond powder (≤10 nm) diluted in isopropyl alcohol or deionized water containing micro-or nanosized metal powder (nickel, cobalt and yttrium). The influence of different solutions on nucleation efficiency was investigated (i.e. nucleation density, distribution, homogeneity, etc.). For highlighting the nucleation centres and better evaluation of the nucleation process the nucleated samples were moved into microwave plasma enhanced chemical vapour deposition (MW CVD) reactor and short-time (10 min) diamond deposition was performed. The nucleation efficiency was characterized by Scanning Electron Microscopy (SEM) and the chemical composition of the grown diamond layer was investigated by Raman Spectroscopy.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2012
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.