Počet záznamů: 1
Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm
- 1.
SYSNO ASEP 0336589 Druh ASEP Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno Zařazení RIV Z - Poloprovoz, ověřená technol., odrůda, plemeno, léčebný postup Poddruh RIV Ověřená technologie Název Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm Překlad názvu E-Beam Writing Technology with Variable Beam Size of 66 - 2100 nm Tvůrce(i) Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, František (UPT-D) RID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Lencová, Bohumila (UPT-D) RID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Král, Stanislav (UPT-D) RID, SAI
Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Mikšík, P. (CZ)
Vašina, J. (CZ)
Horák, R. (CZ)Rok vydání 2009 Int.kód 162 410 Lokalizace výsledku Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. Technické parametry Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 1,8 – 3,6 – 14,4 A/cm2. Otočení souřadnic tvarování, vychylování a posuvu substrátu: -45 stupňů. Ekonomické parametry Desetkrát vyšší proudová hustota umožňuje zvýšit základní expoziční dobu až desetkrát, což má přímý vliv na produktivitu. Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožňuje realizovat struktury dříve nerealizovatelné. Název vlastníka Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. IČ vlastníka 68081731 Kat.výsl.dle nákl. A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Využití jiným subj. N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence Lic. popl. N - Poskytovatel licence nepožaduje licenční poplatek Jazyk dok. cze - čeština Země vlastníka CZ - Česká republika Klíč. slova electron beam lithography ; shaped electron beam Vědní obor RIV JP - Průmyslové procesy a zpracování CEP FR-TI1/576 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu Anotace Realizace technologie zápisu elektronovým svazkem obdélníkového tvaru proměnné velikosti, nastavitelné nezávisle v každém směru v rozsahu 66-2100 nm s krokem 33 nm. Překlad anotace Implementation of electron beam writing technology with a shaped rectangular electron beam of variable size, the beam size being adjusted independently in both axes in the range 66-2100 nm with the step of 33 nm. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2010
Počet záznamů: 1