0334006 - FZÚ 2010 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Nelson, A.J. - Toleikis, S. - Chapman, H. - Bajt, S. - Krzywinski, J. - Chalupský, Jaromír - Juha, Libor - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Vyšín, Luděk - Burian, T. - Kozlová, Michaela - Fäustlin, R.R. - Nagler, B. - Vinko, S.M. - Whitcher, T. - Dzelzainis, T. - Renner, Oldřich - Saksl, K. - Khorsand, A.R. - Heimann, P.A. - Sobierajski, R. - Klinger, D. - Jurek, M. - Pelka, J. - Iwan, B. - Andreasson, J. - Timneanu, N. - Fajardo, M. - Wark, J. S. - Riley, D. - Tschentscher, T. - Hajdu, J. - Lee, R. W.
Soft x-ray free electron laser microfocus for exploring matter under extreme conditions.
[Mikrofokusace svazku měkkého rentgenového laseru s volnými elektrony pro potřeby výzkum chování hmoty za extrémních podmínek.]
Optics Express. Roč. 17, č. 20 (2009), s. 18271-18278. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAAX00100903; GA AV ČR IAA400100701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: microfocus * multilayer mirror * off-axis parabola * x-ray free-electron laser
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 3.278, rok: 2009

We have focused a beam (BL3) of FLASH (Free-electron LASer in Hamburg: lambda = 13.5 nm, pulse length 15 fs, pulse energy 10-40 mu J, 5Hz) using a fine polished off-axis parabola having a focal length of 270 mm and coated with a Mo/Si multilayer with an initial reflectivity of 67% at 13.5 nm. The OAP was mounted and aligned with a picomotor controlled six-axis gimbal. Beam imprints on poly(methyl methacrylate) -PMMA were used to measure focus and the focused beam was used to create isochoric heating of various slab targets. Results show the focal spot has a diameter of <= 1 mu m. Observations were correlated with simulations of best focus to provide further relevant information.

Svazek laseru s volnými elektrony FLASH byl fokusován na plochu o průměru menším než jeden mikrometr pomocí mimoosé paraboly s mnohovrstvým pokrytím optimalizovaným na maximální odrazivost při 13,5 nm. Fokusovaný svazek byl charakterizován z ablačního otisku v poly(methylmetakrylát)u analyzovaného pomocí mikroskopie atomárních sil (AFM).
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0178851