Počet záznamů: 1
Fe and Fe+2%Si targets as ion sources via UV laser ablation plasma
- 1.
SYSNO ASEP 0333736 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Fe and Fe+2%Si targets as ion sources via UV laser ablation plasma Překlad názvu Ablace Fe a Fe +2% Si terčíků pomocí UV laseru plazmovým zdrojem iontů Tvůrce(i) Lorusso, A. (IT)
Krása, Josef (FZU-D) RID, ORCID
Láska, Leoš (FZU-D)
Nassisi, V. (IT)
Velardi, L. (IT)Zdroj.dok. European Physical Journal D. - : Springer - ISSN 1434-6060
Roč. 54, č. 2 (2009), 473-476Poč.str. 4 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. DE - Německo Klíč. slova metallic alloy laser-produced plasma ; enhanced ion emission ; ion temperature Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP IAA100100715 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z10100523 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000268329200048 DOI 10.1140/epjd/e2009-00023-y Anotace Characteristics of Fe and Fe with 2% of Si free expanding plasmas produced with the use of KrF laser beam of 10^8 W/cm2 irradiance were determined. The analysis of time-resolved ion currents showed that the Si admixture enhances both the ion charge yield and the plasma temperature, which corresponds in turn to the increasing of the average kinetic energy of the particles as well as of the more collimated space distribution of ions. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2010
Počet záznamů: 1