Počet záznamů: 1  

High-pass energy-filtered photoemission electron microscopy imaging of dopants in silicon

  1. 1.
    SYSNO ASEP0308203
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevHigh-pass energy-filtered photoemission electron microscopy imaging of dopants in silicon
    Překlad názvuStudium vlastností dotovaného křemíku pomocí fotoemisní elektronové mikroskopie s využitím energiového filtru
    Tvůrce(i) Hovorka, Miloš (UPT-D)
    Frank, Luděk (UPT-D) RID, SAI, ORCID
    Valdaitsev, D. (DE)
    Nepijko, S. (DE)
    Elmers, H. (DE)
    Schönhense, G. (DE)
    Zdroj.dok.Journal of Microscopy. - : Wiley - ISSN 0022-2720
    Roč. 230, č. 1 (2008), s. 42-47
    Poč.str.6 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.GB - Velká Británie
    Klíč. slovadopants ; energy-filtered imaging ; PEEM ; silicon
    Vědní obor RIVJA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    CEPGA102/05/2327 GA ČR - Grantová agentura ČR
    CEZAV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011)
    UT WOS000254614600007
    AnotaceDifferently doped areas in silicon can show strong electron-optical contrast in dependence on the dopant concentration and surface conditions. Photoemission electron microscopy is a powerful surface-sensitive technique suitable for fast imaging of doping-induced contrast in semiconductors. We report on the observation of Si (100) samples with n- and p-type doped patterns (with the dopant concentration varied from 1016 to 1019 cm-3) on a p- and n-type substrate (doped to 1015 cm-3), respectively. A high-pass energy filter of the entire image enabled us to obtain spectroscopic information, i.e. quantified photo threshold and related photoyield differences depending on the doping level. Measurements have confirmed the possibility of resolving areas at a high contrast even with the lowest dopant concentration when employing the energy filter. The influence of electron absorption phenomena on contrast formation is discussed.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2008
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.