Počet záznamů: 1
Low Temperature Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) of TiN on Si Substrates
- 1.Nohava, J., Jedrzejowski, P. Low Temperature Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) of TiN on Si Substrates. In: Workshop ČVUT 2001. Praha: ČVUT Praha, 2001, s. 458-459. ISBN 80-01-02335-4.
Počet záznamů: 1