Počet záznamů: 1
Measurements of escape probability of photoelectrons and the inelastic mean free path in silver sulphide
- 1.
SYSNO ASEP 0134643 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Measurements of escape probability of photoelectrons and the inelastic mean free path in silver sulphide Tvůrce(i) Zemek, Josef (FZU-D) RID, ORCID
Jiříček, Petr (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hucek, Stanislav (FZU-D)
Lesiak, B. (PL)
Jablonski, A. (PL)Zdroj.dok. Surface and Interface Analysis. - : Wiley - ISSN 0142-2421
Roč. 30, - (2000), s. 222-227Poč.str. 6 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. GB - Velká Británie Klíč. slova escape probability ; IMFP ; Ag2S Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEZ AV0Z1010914 - FZU-D Anotace The escape probability as a function of depth of origin for the S 2s photoelectrons exhibits non-monotonic beahviour, with a maximum at a depth of 0.6-0.8 nm. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2004
Počet záznamů: 1