Počet záznamů: 1
Characterization of hard Ti-W-N films deposited by reactive D.C. magnetron sputtering
SYS 0132858 LBL 00000nam^^22^^^^^^^^450 005 20200403114327.4 101 0-
$a eng 102 $a SI 200 1-
$a Characterization of hard Ti-W-N films deposited by reactive D.C. magnetron sputtering 215 $a 4 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0291752 $1 011 $a 1318-0010 $1 200 1 $a Kovine, Zlitine, Technologije $v Roč. 33, č. 6 (1999), s. 497-500 700 -1
$3 cav_un_auth*0042222 $a Shaginyan $b L. R. $y UA $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100391 $a Mišina $b Martin $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100398 $a Musil $b Jindřich $p FZU-D $w Fabrication and Analysis of Functional Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0063581 $a Regent $b F. $y CZ $4 070
Počet záznamů: 1