Výzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace
1.
Projekt
Výzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace.
Název projektu
TF01000084
Poskytovatel
GA TA ČR
Doba řešení
2015 - 2017
Příjemce projektu
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
(Spolu)řešitel projektu
Olejníček
Katal.org.
CAV
Odkazy
(4) - Článek v odborném časopise
(1) - Prototyp, funkční vzorek
(1) - Patentový dokument
(1) - Užitný vzor, průmyslový vzor
(1) - Poloprovoz, technologie, odrůda, plemeno
Soubor
Projekty
Počet záznamů: 1
Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom
jak používáme cookies.