SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec

0549960 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec.
[SMV-2021-31: TELIGHT aiming pattern.]
Brno: TELIGHT Brno, s.r.o., 2021. 8 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: e-beam lithography * optics * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

Oblast vývoje se týká realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání. Vývoj technologie tvorby přesného fázového filtru planparalelního typu pro optické aplikace modifikací křemenných podložek pomocí přesného suchého leptání.

The field of development concerns the realization of precise relief structures using electron lithography and reactive ion etching. Development of technology for the creation of a precise phase filter of the plane-parallel type for optical applications by modification of quartz substrates by means of precise dry etching.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325852