Propagační hologram “av21”Strategie AV ČR AV21

0481742 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Knápek, Alexandr - Giričová, D. - Brunn, Ondřej
Propagační hologram “av21”Strategie AV ČR AV21.
[Promotional hologram “av21” Strategy CAS AV21.]
Interní kód: APL-2017-04 ; 2017
Technické parametry: Zřízení má rozměr 46 mm x 30 mm (výsek štítku má rozměr 42 mm x 26 mm). Zařízení obashuje čárové mřížky, spirálovou mřížku, zonální prvky a strukturu CGH.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantů je využíván příjemcem. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e–beam lithography * planar microstructure * diffractive device
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)

Funkční vzorek opticky variabilního obrazového zařízení (DOVID) se skládá z několika optických prvků, každý z nich je tvořen řadou optických elementů, například difrakčních mřížek, zonálních struktur apod. Tyto prvky jsou realizovány jako reliéfní planární struktura ohýbající odražené zpravidla bílé světlo do různých vertikálních a azimutálních směrů, a vytvářející požadovaný vizuální vjem. Zařízení bylo realizováno expozicí na elektronovém litografu s Gaussovským svazkem typu Vistec EBPG5000plusES a následnými operacemi elektronové litografie. Matrice funkčního vzorku byla reprodukována galvanickými a lisovacími technikami.

Functional sample of an optically variable image device (DOVID) consists of several optical elements, each one is formed by a series of optical primitives, for example diffraction gratings, zonal structures and so on. These elements are realized as a planar relief structure diffracting the reflected generally white light into different vertical and azimuth directions, and creating the desired visual perception. The device was realized by exposure on the electron beam pattern generator with Gaussian beam brand Vistec EBPG5000plusES and by related operations of electron beam lithography. The master of the functional sample was reproduced by electroplating and embossing techniques.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277246