Počet záznamů: 1
Způsob výroby silicidu hořečnatého a jeho zpracování.
- 1.0473976 - ÚCHP 2018 RIV cze P - Patentový dokument
Šolcová, Olga - Kaštánek, František - Dytrych, Pavel - Bumba, Jakub - Fajgar, Radek
Způsob výroby silicidu hořečnatého a jeho zpracování.
[The Method of Production of Magnesium Silicide and Its Processing.]
2017. Vlastník: Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 05.04.2017. Číslo patentu: 306710
Grant CEP: GA ČR GA15-14228S
Institucionální podpora: RVO:67985858
Klíčová slova: magnesium silicide * acid hydrolysis * microparticles
Obor OECD: Chemical process engineering
Web výsledku:
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/306/306710.pdf
Způsob výroby silicidu hořečnatého a jeho zpracování, podle kterého se směs mikročástic hořčíku o velikosti 30 až 200 µm a nanočástic křemíku o velikosti 10 až 5000 nm, ohřeje na teplotu 560 až 640 °C, která se udržuje po dobu potřebnou k dosažení požadovaného stupně konverze Si a Mg a získaný silicid hořečnatý se následně podrobí kyselé hydrolýze za vzniku silanů a hydrolyzátu. K získání amorfní struktury silicidu hořečnatého se v prvním stupni směs mikročástic hořčíku a nanočástic křemíku oC ohřeje na teplotu v rozmezí od 280 °C do 450 °C, vzniklé částice se poté ochladí na max. teplotu 65 oC a mechanicky rozmělní na velikost 10 až 50 µm a takto upravené mikročástice se v druhém stupni v atmosféře inertního plynu, či při tlaku pod 2 kPa, ohřejí na teplotu 560 až 640 °C.
The method of production of magnesium silicide and its processing, according to which a mixture of magnesium particles of 30 to 200 microns and silicon nanoparticles of 10 to 5000 nm is heated to a temperature of 560 to 640°C which is maintained for the time required to achieve the desired degree of conversion of Si and Mg, and the magnesium silicide thus obtained is then subjected to acid hydrolysis to form silanes and hydrolysates. To obtain the amorphous structure of magnesium silicide, in the first step, the mixture of magnesium microparticles and silicon nanoparticles is heated to a temperature in the range of 280°C to 450°C, the resulting particles are then cooled to a maximum of 65°C and are mechanically ground to a size of 10 to 50 microns, and the microparticles thus treated are, in the second step, heated to a temperature of 560 to 640°C in an inert gas atmosphere or under pressure of 2 kPa.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0271701
Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 306710.pdf 8 517.4 KB Vydavatelský postprint povolen
Počet záznamů: 1