0323878 - FZÚ 2009 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Hubička, Zdeněk - Virostko, Petr - Deyneka, Alexander - Jastrabík, Lubomír - Chvostová, Dagmar - Šíchová, Hana - Pokorný, Jan
Deposition of nanocrystalline and microcrystalline Ba_xSr_1-xTiO₃ by means of pulse modulated low pressure plasma jet system.
[Depozice nanokrystalického a mikrokrystalického Ba_xSr_1-xTiO₃ pomocí pulzně modulovaného nízkotlakého systému s plazmovou tryskou.]
Integrated Ferroelectrics. Roč. 81, č. 1 (2006), s. 227-237. ISSN 1058-4587. E-ISSN 1607-8489
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: ferroelectric thin films * hollow cathode sputtering * emission spectroscopy
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 0.410, rok: 2006
DOI: https://doi.org/10.1080/10584580600685535

Modulated RF plasma jet system was used for deposition of BaxSr1-xTiO3 and SrTiO3 thin films.Optical emission spectroscopy of the plasma was used for control of concentration of particles sputtered from the hollow cathode.

Modulovaný RF systém s plazmovou tryskou byl použit pro depozici tenkých vrstev BaxSr1-xTiO3 a SrTiO3.Optická emisní spektroskopie plazmatu byla použita pro kontrolu koncentrace částic naprašovaných z duté katody.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0171714