Počet záznamů: 1  

Measurements of escape probability of photoelectrons and the inelastic mean free path in silver sulphide

  1. 1.
    0134643 - FZU-D 20030543 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Zemek, Josef - Jiříček, Petr - Hucek, Stanislav - Lesiak, B. - Jablonski, A.
    Measurements of escape probability of photoelectrons and the inelastic mean free path in silver sulphide.
    Surface and Interface Analysis. Roč. 30, - (2000), s. 222-227. ISSN 0142-2421. E-ISSN 1096-9918
    Grant ostatní: GAUK(CZ) 1051-10/733
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
    Klíčová slova: escape probability * IMFP * Ag2S
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 1.215, rok: 2000

    The escape probability as a function of depth of origin for the S 2s photoelectrons exhibits non-monotonic beahviour, with a maximum at a depth of 0.6-0.8 nm.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0032538
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.