0132406 - FZU-D 990356 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Theobald, A. - Schaff, O. - Hirschmugl, C. J. - Fernandez, V. - Schindler, K. M. - Polčík, Martin - Bradshaw, A. M. - Woodruff, D. P.
Photolelectron diffraction study of ultrathin Fe films on Cu{111}.
Physical Review. B. Roč. 59, č. 3 (1999), s. 2313-2319. ISSN 0163-1829
Grant ostatní: DE(CZ) 05625EBA6
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 3.008, rok: 1999
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0030432