Počet záznamů: 1
Thin-film silicon solar cell technology
- 1.0100472 - FZU-D 20040328 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Shah, A. V. - Schade, H. - Vaněček, Milan - Meier, J. - Vallat-Sauvain, E. - Wyrsch, N. - Kroll, U. - Droz, C. - Bailat, J.
Thin-film silicon solar cell technology.
[Technologie slunečních článků na bázi tenkých křemíkových vrstev.]
Progress in Photovoltaics. Roč. 12, - (2004), s. 113-142. ISSN 1062-7995. E-ISSN 1099-159X
Grant CEP: GA MŽP SN/320/11/03
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: thin-film silicon modules * hydrogenerated amorphous silicon(a-Si:H) * hydrogenerated microcrystalline (ćc-Si:H) * transparent conductive oxydes(TCOs) * building-integrated photovoltaics(BIPV)
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.196, rok: 2004
This paper describes the use, within p-i-n-and n-i-p-type solar cells, of hydrogenated amorphous silicon(a-Si:H) and hydrogenated microcrystalline silicon (µc:H) thin films (layers), both deposited at low temperatures (200oC) by plasma-assisted chemical vapour deposition (PECVD), from a mixture of silane and hydrogen
Článek popisuje použití tenkých vrstev hydrogenovaného amorfního a mikrokrystalického křemíku pro solární články typu p-i-n a n-i-p, deponovaných při nízkých teplotách (200oC) ze silanu a vodíku metodou PECVD
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0007974
Počet záznamů: 1