0603688 - ÚPT 2025 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hrabina, Jan - Pravdová, Lenka - Holá, Miroslava - Číp, Ondřej - Lazar, Josef
Laserový zdroj 213 nm.
[Laser system 213 nm.]
Interní kód: APL-2024-14 ; 2024
Technické parametry: Systém generuje kontinuální laserový svazek s vlnovou délkou 213 nm a výstupním optickým výkonem > 100 uW. Optický výstup ze systému je realizován ve volné optice. Spektrální šířka čáry výstupního svazku je < 2 MHz.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Jan Hrabina, Ph.D., hrabina@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW03010232
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: UV laser * frequency doubling * UV litography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

Vyvinutý UV laserový zdroj s výstupní vlnovou délkou 213 nm je určený jako zdroj záření k metrologickým metodám kontroly kvality pro optickou výrobu prvků pro litografii s krátkými vlnovými délkami. Zdroj se skládá z čerpacího diodového úzkopásmového laseru pracujícího v kontinuálním režimu a s jednomodovým provozem, a z jednotky pro násobení optického kmitočtu s nelineárním krystalem umístěným v optickém rezonátoru. Koherentní zdroj dosahuje výstupního optického výkonu > 100 uW kontinuálního záření na vlnové délce 213 nm, spektrální šířka čáry laseru je < 2 MHz.

The developed UV laser source with an output wavelength of 213 nm is intended as a radiation source for metrological quality control methods for optical fabrication of short wavelength lithography components. The source consists of a CW single-mode narrow-linewidth diode laser and a second harmonics generation unit with nonlinear crystal integrated into an optical resonator. The coherent source achieves an output optical power of > 100 uW of continuous radiation at 213 nm wavelength, and the spectral linewidth of the laser is < 2 MHz.
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0360999