Litografická maska s nanometrickým rozlišením

0584699 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Kopal, Jaroslav - Burda, Daniel
Litografická maska s nanometrickým rozlišením.
[Lithographic mask with nanometer accuracy.]
Interní kód: APL-2024-02 ; 2024
Technické parametry: Kalibrační a metrologická pomůcka pro dosažení přesných výsledků při měření v optickém světelném spektru. Funkční vzorek je navržen jako mikroskopické sklíčko o rozměru cca. 76 mm x 26 mm, na kterém je umístěn motiv (resp. motivy) o celkovém rozměru cca. 46.7 mm x 18.5 mm.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN02000020
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: calibration * optical * devices * resolution
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

Design funkčního vzorku byl navržen tak, aby umožňoval kalibraci různých optických zařízení. Motivy jsou patřičně vzdáleny od okrajů vzorku z důvodu nehomogenity naneseného rezistu v těchto místech. Zásadní vlastností vzorku je jeho modularita a flexibilita.

The design of the functional sample was designed to allow calibration of various optical devices. The motifs are appropriately spaced from the edges of the sample due to the inhomogeneity of the applied resist at these locations. Modularity and flexibility are the main features of the sample.
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0352542