SMV-2023-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM

0579072 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
SMV-2023-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2023-06: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN Brno a.s., 2023. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

Studie se zaměřuje na výzkum a vývoj přesných kalibračních vzorků s reliéfními strukturami. Tyto vzorky jsou navrženy ke kalibraci zobrazování ve skenovacích elektronových mikroskopech (SEM). Testovací vzory umožňují ověření a kalibraci zvětšení, ortogonality a geometrického zkreslení. Příprava kalibračních vzorků využívá mikro litografické techniky přizpůsobené pro zpracování křemíku a dalších související technologické postupy.

The study focuses on the research and development of precise calibration samples featuring relief structures. These samples are designed for calibrating parameters in scanning electron microscopes (SEM). The testing patterns enable the verification and calibration of magnification, orthogonality, and geometric distortion. The preparation of calibration specimens utilizes micro lithographic techniques tailored for silicon processing and other relevant technological procedures.
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0347946