SMV-2023-05: DI2023

0579070 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
SMV-2023-05: DI2023.
[SMV-2023-05: DI2023.]
Brno: DELONG INSTRUMENTS a.s., 2023. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

Výzkum se soustředí na zkoumání a vývoj precizních kalibračních vzorků s reliéfními strukturami. Tyto vzorky jsou koncipovány pro kalibraci parametrů ve skenovacích elektronových mikroskopech (SEM). Testovací vzory umožňují ověření kvality zobrazovaní danou mikroskopickou technikou jako je celkové zvětšení, velikost zorného, rozlišení, deformace zobrazení v laterárních osách a další geometrická zkreslení. Pro přípravku jsou využívány precizní litografické techniky a další techniky vycházející z technologií zpracování křemíku z polovodičového průmyslu. Vývoj byl zaměřen na optimalizaci záznamu leptacích masek před přenosem obrazu do monokrystalické křemíkové podložky.

The research focuses on the investigation and development of precise calibration samples with relief structures. These samples are designed for calibrating parameters in scanning electron microscopes (SEM). Test patterns allow verification of the imaging quality through microscopic techniques such as overall magnification, field of view size, resolution, deformation in lateral axes, and other geometric distortions. Precision lithographic techniques and other methods derived from silicon processing technologies in the semiconductor industry are employed for sample preparation. The development has been directed towards optimizing the recording of etching masks before transferring the image onto a monocrystalline silicon substrate.
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0347943