Спосіб одержання опромінених частинок

0576732 - ÚOCHB 2024 RIV ukr P - Patentový dokument
Cígler, Petr - Havlík, Jan - Hrubý, Martin - Kučka, Jan
Спосіб одержання опромінених частинок.
[Method of production of irradiated particles.]
2023. Vlastník: Ústav organické chemie a biochemie AV ČR v. v. i. - Ústav makromolekulární chemie AV ČR v. v. i. Datum udělení patentu: 28.06.2023. Číslo patentu: UA127266. Teritoriální ochrana: národní patent v zemi mimo EU ,mezinárodní patentová ochrana dle Smlouvy o patentové spolupráci.
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LM2015064
Institucionální podpora: RVO:61388963 ; RVO:61389013
Klíčová slova: nanodiamond * nitrogen vacancy centers * irradiation
Obor OECD: Biochemistry and molecular biology; Inorganic and nuclear chemistry (UMCH-V)
https://worldwide.espacenet.com/patent/search/family/063273431/publication/UA127266C2?q=UA127266C2

Даний винахід стосується способу опромінення іонами основи у вигляді частинок, що включає стадії включення основи у вигляді частинок у тверду матрицю, що містить атоми 10B, та
піддавання матриці, одержаної на попередній стадії, опроміненню потоком нейтронів з одержанням твердої матиці, що включає опромінену основу у вигляді частинок. Спосіб за
даним винаходом надзвичайно ефективний та піддається масштабуванню. Він, зокрема, придатний для одержання опромінених наноалмазів та опромінених частинок SiC.

The present invention relates to a process for ion irradiation of a particulate substrate, comprising the steps of: embedding particulate substrate in a solid matrix comprising 10B atoms, and exposing the matrix obtained in the previous step to a neutron flux, to give irradiated particulate substrate. The process of the invention is extremely effective and amenable to large scale. It is particularly suitable for producing irradiated nanodiamonds and irradiated SiC particles.
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0346156