Kalibrační standard s mikro reliéfní kalibrační strukturou zaznamenané v tenké vrstvě

0575340 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Matějka, Milan - Brunn, Ondřej
Kalibrační standard s mikro reliéfní kalibrační strukturou zaznamenané v tenké vrstvě.
[Calibration standard with micro relief calibration structure recorded in a thin layer.]
Interní kód: APL-2024-01 ; 2024
Technické parametry: Křemíkový čip rozměru 10 mm x 10 mm obsahující motiv kalibračních vzorů (s mikronovým a submikronovým rozlišením) vytvořených v tenké vrstvě feromagnetického materiálu naneseného pomocí PVD techniky.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW03010504
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Calibration sample for microscopy * ferromagnetic layers * electron lithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

Vzorek, obsahující sadu kalibračních obrazců a periodických mřížek. Design kalibračních struktur je připraven na základě funkčních potřeb pro metrologické a kalibrační operace. Při návrhu byl brán ohled také na možností litografických technik a dalších technologických operacích, které byly pro přípravu kalibračního preparátu vyvíjeny. Funkční vzorek má formu křemíkového čipu a obsahuje binární strukturu realizovanou v tenké vrstvě připravenou pomocí elektronové litografie a depoziční technikou (PVD). Součástí je dokumentace popisující design kalibračních struktur a obrazové podklady obsahující výstupy z měření vzorku na AFM, SEM a konfokálním mikroskopu.

A sample containing a set of calibration patterns and periodic grids. The design of the calibration structures is based on the functional needs for metrology and calibration operations. The design also took into account the capabilities of lithographic techniques and other technological operations that were developed for the preparation of the calibration pattern. The functional sample is in the form of a silicon chip and contains a binary structure realized in a thin film prepared by electron beam lithography and deposition (PVD) techniques. Documentation describing the design of the calibration structures and images containing the output of the sample measurements on AFM, SEM and confocal microscope are included.
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0345129