Magnetronová hlava pro naprašování povlaků černých kovů

0569054 - FZÚ 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
More Chevalier, Joris - Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Fitl, Přemysl - Lančok, Ján - Pokorný, Petr - Musil, Jindřich
Magnetronová hlava pro naprašování povlaků černých kovů.
[Magnetron sputter head for black metal coating.]
Interní kód: Magnetronová hlava pro naprašováni černých kovů ; 2022
Technické parametry: Magnetronová hlava tvaru obdélníkové katody o rozměrech 9 cm x 15 cm, Vodou chlazený terč s rozměry 7 cm x 14 cm, Limitní výkon magnetronu 1000 W, tlak pracovního plynu (argon) 0,5 Pa
Ekonomické parametry: 200 000 Kč
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TP01010035
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: magnetron sputtering * metal * black metal
Obor OECD: Coating and films

Funkční vzorek „Magnetronová hlava pro naprašování povlaků černých kovů“ vznikl ve Fyzikálním ústavu, AVČR, v.v.i. v rámci projektu „Upscaling magnetron sputtering head for black metal coatings fabrication“ program GAMA 2, TP01010035 s finanční podporou TAČR.Magnetronová hlava může být využita pro naprašování vrstev kovů a černých kovů. Hlava má tvar obdélníkové katody o rozměrech 9 cm x 15 cm. Konstrukce hlavy umožňuje snadnou demontáž na jednotlivé díly. Vodou chlazený terč s rozměry 7 cm x 14 cm může být snadno vyměněn. Je možné pokrývat obdélníkové plochy do velikosti 6 cm x 13 cm. Magnetické pole je vytvářeno pomocí permanentních magnetů umístěných pod terčem v prostoru s chlazením. Magnetronový výboj může být generován pomocí AC, DC, pulzních napájecích zdrojů. Limitní výkon magnetronu je 1000 W. Výboj může být udržován od tlaku pracovního plynu (argon) 0,5 Pa. Směs argonu a dalších plynů může být s výhodou využita pro depozici vrstev černých kovů, např. černého hliníku.

The functional sample was made in Institute of Physics of the Czech Academy of Science in the frame of project „Upscaling magnetron sputtering head for black metal coatings fabrication“ program GAMA 2, TP01010035 by financial support of TA ČR. Developed magnetron sputter head can be used for depositions of metal and black metal films. The head is rectangular cathode with dimensions of 9 cm per 15 cm. The head construction allows to be disassembled into parts easily. A water-cooled target of dimension of 7 cm per 14 cm is fixed by 10 screws and can be easily exchanged. It allows to coat rectangular substrate areas up to 6 cm per 13 cm. Magnetic field is generated by permanent neodymium magnets inserted under the target and around the cooling area place. The magnetron discharged can be produced by AC or DC power supplies. The power limit condition is 1000 W. The discharge can be maintained from 0.5 Pa of working gases. Gas mixtures can be also used for black coating.
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0340910