Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů

0567776 - ÚPT 2023 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Mikel, Břetislav - Helán, R. - Urban, F.
Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů.
[Binary phase masks fabrication using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for optical fiber sensors manufacturing.]
LA62. Sborník příspěvků multioborové konference LASER62. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2022 - (Růžička, B.), s. 43-44. ISBN 978-80-87441-30-5.
[LASER62. Lednice (CZ), 09.11.2022-11.11.2022]
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Binary phase gratings * e-beam lithography * reactive ion etching * optical fiber sensors * diffraction grating
Obor OECD: Electrical and electronic engineering

Příspěvek se zabývá přípravou fázových binárních masek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro potřeby výroby optických vláknových senzorů. Zkoumalo se ladění hloubky mřížek pro potlačení účinnosti různých kombinací nežádoucích difrakčních řádů pro danou periodu mřížky a její střídu. Byly porovnány teoretické simulace s měřeními na vyrobených mřížkách.

This contribution deals with the fabrication of binary phase masks using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for the manufacturing of optical fiber sensors. The research was focused on the adjusting of gratings depth because of suppression of various undesirable diffraction orders for set grating pitch and its duty cycle. Theoretical simulations were compared with measurement of fabricated gratings.
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0339029