Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami

0567281 - FZÚ 2023 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Fejfar, Antonín
Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami.
[Thin films for photovoltaics deposited by plasma chemistry methods
.]
Zpravodaj ČVS. Vol. 1. Praha: Česká Vakuová Společnost, 2022 - (Drbohlav, J.), s. 2-6. ISSN 1213-2705.
[LŠVT - Letní škola vakuové techniky 2022. Bítov (CZ), 30.05.2022-02.06.2022]
Grant CEP: GA MŠMT LM2018110; GA MŠMT EF16_026/0008382
Grant ostatní: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy - GA MŠk(CZ) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_026/0008382
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: thin films * deposition * plasma chemistry * photovoltaics
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Tenké vrstvy jsou klíčovou komponentou prakticky všech moderních fotovoltaických článků pro využití sluneční energie. Články využívají tenké vrstvy pro dosažení optimálního záchytu světla, pro rozdělení a sběr fotogenerovaných nábojů i pro pasivaci rozhraní či přímo jako vrstvy absorbující fotony slunečního svitu. Každoročně jsou tak nanášeny vrstvy o celkové ploše řádu mnoha stovek kilometrů čtverečních, a to především s využitím plazmochemických technologií.

Thin films are key components for practically all of contemporary photovoltaic cells for solar energy utilization. Cells use thin films for optimizing light trapping, for selecting and collection of photogenerated charges and interface passivation or as absorber layers. Each year several hundreds of square kilometers of thin films are deposited mainly by plasma chemistry methods.
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0338552