Počet záznamů: 1  

SMV-2022-57: Vývoj testovacích preparátů pro REM

  1. 1.
    0566446 - ÚPT 2023 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
    SMV-2022-57: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2022-57: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2022. 5 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

    Výzkum, vývoj a realizace rozměrově přesných vzorků s reliéfními strukturami. Vzorky jsou určeny pro kalibraci parametrů rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Motivy struktur umožňují kontrolu a kalibraci zvětšení, pravoúhlosti a geometrického zkreslení. Pro přípravu preparátů jsou vyvíjeny mikro litografické techniky opracování křemíku a další související technologické postupy.

    Research and development of accurate calibration samples with relief structures. The samples are intended for parameter calibration of scanning electron microscope (REM). Testing patterns allow to check and calibrate magnification, orthogonality and geometric distortion. Micro lithographic techniques for silicon processing and other related technological processes have been developed for the calibration specimen preparation.
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337763

     
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.