Zdroj pro technologii HIPIMS s obloukovým odpařováním

0552174 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Mareš, P. - Dubau, M. - Vyskočil, J.
Zdroj pro technologii HIPIMS s obloukovým odpařováním.
[Source for HiPIMS technology with arc evaporation.]
Interní kód: FVHA/FZU/2021 ; 2021
Technické parametry: HiPIMS zdroj plazmatu–pulzní frekvence: 10-1 000 Hz HiPIMS zdroj plazmatu–doba pulzu: 30 -1 000 µs Zdroj plazmového oblouku–typický proud: > 10 A/cm2 Zdroj plazmového oblouku–max. napětí: 2 000 V
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA MPO FV30177
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * HiPIMS * arc * magnetron * DLC
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)

V rámci řešení projektu MPO TRIO jsme vyvinuli nový plazmový zdroj kombinující tzv. HiPIMS výboj spolu s nízkotlakým obloukovým výbojem. Vhodně spřažené elektronické řízení HiPIMS výboje spolu se zdrojem plazmového oblouku umožnilo generovat oblouk v daném čase během pulzu HiPIMS výboje. Uvedené řešení se ukázalo jako vhodné pro depozice DLC vrstev na bází amorfního uhlíku s vyšším obsahem sp3 vazeb.

Within the project MPO TRIO, we have developed a new plasma source combining HiPIMS plasma along with a low-pressure arc discharge. Appropriately coupled electronic control of the HiPIMS discharge together with the plasma arc source made it possible to generate an arc at a selected time during the HiPIMS discharge pulse. This solution proved to be suitable for the deposition of DLC layers based on amorphous carbon with a higher fraction of sp3 bonds.

Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327317