Počet záznamů: 1  

Changes of morphological, optical and electrical properties induced by hydrogen plasma on (0001) ZnO surface

  1. 1.
    0548925 - FZÚ 2023 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
    Remeš, Zdeněk - Artemenko, Anna - Ukraintsev, Egor - Sharma, Dhananjay K. - Buryi, Maksym - Kromka, Alexander - Potocký, Štěpán - Szabó, Ondrej - Kuliček, J. - Rezek, B. - Poruba, A. - Míčová, J. - Shu Hsu, H.
    Changes of morphological, optical and electrical properties induced by hydrogen plasma on (0001) ZnO surface.
    Physica Status Solidi A. Roč. 219, č. 16 (2022), č. článku 2100427. ISSN 1862-6300. E-ISSN 1862-6319
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR GC19-02858J
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760; AV ČR(CZ) SAV-21-09; AV ČR(CZ) StrategieAV21/6
    Program: Bilaterální spolupráce; StrategieAV
    Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: ZnO * plasma * XPS * AFM * PL
    Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    Impakt faktor: 2, rok: 2022
    Způsob publikování: Open access s časovým embargem
    https://doi.org/10.1002/pssa.202100427

    Plasma provides specific adjustment of solid-state surface properties offering an alternative to high temperature treatment. In this work, hydrogen plasma treatment of monocrystalline (0001) ZnO surface is studied in an inductively coupled plasma (ICP) reactor with reduced capacitively coupled plasma mode. We explain the crucial role of electrical grounding of the sample holder for plasma etching and related changes in the morphology, optical and electrical properties of surfaces exposed to electron and ion bombardment. The effects on the chemical composition of the surface are analyzed by (XPS), optical properties by photoluminescence spectroscopy, topography, roughness and surface potential by atomic force microscopy (AFM) and Kelvin probe force microscopy (KPFM). All methods show altered ZnO surface properties before and after plasma treatment strongly depending on the electrical potential of the holder.
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0334158

     
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0548925AP.pdf01.4 MBAutorský postprintpovolen
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.