SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM

0545142 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2021-03: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Tescan Brno, s.r.o., 2021. 6 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

Výzkum, vývoj a realizace rozměrově přesných vzorků s reliéfními strukturami. Vzorky jsou určeny pro kalibraci parametrů rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Motivy struktur umožňují kontrolu a kalibraci zvětšení, pravoúhlosti a geometrického zkreslení. Byly vyvinuty přípravky pro technologické operace depozice a rezistu a pro operace leptání. Optimalizace bylo dosaženo i v oblasti transferu reliéfní struktury do křemíkové podložky při anizotropním leptání, díky modifikacím leptací aparatury. Pro kontrolu a vyhodnocení jakosti čipů mezi jednotlivými technologickými operacemi byly vyvinuty standardizované postupy.

Research and development of accurate calibration samples with relief structures. The samples are intended for parameter calibration of scanning electron microscope (SEM). Testing patterns allow to check and calibrate magnification, orthogonality and geometric distortion. New tools for handling during technological operations of resist deposition and etching were developed. Optimization was reached in the process of transfer of the relief structure into silicon via anisotropic etching, due modification of etching apparatus. Standardized procedures for inspection and quality control were developed.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321890