Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky

0544775 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Kopal, Jaroslav - Brunn, Ondřej - Fordey, T. - Schovánek, P.
Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky.
[Special photomask for wavefront measurement of projection optics.]
Interní kód: APL-2021-04 ; 2021
Technické parametry: Rozměry vzorku: disk o průměru 20 mm tloušťky 0,6 mm. Mezní rozlišení vzorku: 511,36 nm.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

Speciální foto maska sestává ze dvou odlišných sad obrazců realizovaných odlišnými technologickými postupy. Celá sestava masky je navržena tak, aby vykazovala definovanou kombinaci optických vlastností.

The special photo mask consists of two different sets of patterns realized by different technological procedures. The entire mask assembly is designed to perform a defined combination of optical features.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321586