Počet záznamů: 1
ICP plazma zdroj
- 1.0539967 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
ICP plazma zdroj.
[ICP plasma source.]
Interní kód: FVMF2/FZU/2020 ; 2020
Technické parametry: Vnější průměr vstupní části ICP zdroje: 6 mm. Vnitřní průměr vstupní části ICP zdroje: 4 mm. Vnější průměr pracovní části ICP zdroje: 25 mm. Vnitřní průměr pracovní části ICP zdroje: 23 mm.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: inductively coupled plasma * Minimal Fab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali zdroj induktivně vázaného plazmatu (ve zkratce ICP z anglického inductively coupled plasma) vhodného pro použití v Minimal Fab systému. Měření generovaného plazmatu prokázalo, že ICP zdroj plazmatu je schopen generovat nízkoteplotní plazma v intervalu tlaků od 1 Pa až po 100 Pa. Dále ICP zdroj je možné provozovat také v čistém argonu, dusíku, kyslíku nebo jejich směsích.
Within the TAČR project, we developed and implemented an inductively coupled plasma source (ICP) suitable for use in the Minimal Fab system. Low-temperature plasma diagnostics of the generated plasma proved that the ICP plasma source is able to generate low-temperature plasma in the pressure range from 1 Pa to 100 Pa. Furthermore, the ICP source can also be operated in pure argon, nitrogen, oxygen gas or mixtures thereof.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0317650
Počet záznamů: 1