Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů

0537050 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Hnilica, J. - Klein, P. - Vašina, P.
Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů.
[Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages.]
Interní kód: FVNCK1/FZU/2020 ; 2020
Technické parametry: Délka pulzu: 30 μs, vzdálenost mezi pulzy v balíčku: 20 μs, střída: 5 %, počet pulzů:4, pracovní tlak v reaktoru: 1 Pa
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * deposition rate * pulse package * ionization fraction
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)

V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů. Změřené parametry plazmatu prokázali, že zařízení je schopné zdvojnásobit depoziční rychlosti při zachování ionizačního stupně rozprášených částic.

As a part of the TAČR project, we have developed a device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages. The measured plasma parameters showed that the device is capable to double the deposition rate while the ionization fraction of sputtered species remain the same.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314801