Způsob generování nízkoteplotního plazmatu, způsob povlakování vnitřního povrchu dutých elektricky vodivých nebo feromagnetických trubic a zařízení pro provádění těchto způsobů

0520336 - FZÚ 2020 RIV cze P - Patentový dokument
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Klinger, Miloslav
Způsob generování nízkoteplotního plazmatu, způsob povlakování vnitřního povrchu dutých elektricky vodivých nebo feromagnetických trubic a zařízení pro provádění těchto způsobů.
[A method of generating low temperature plasma, a method of coating the inner surface of hollow electrically conductive or ferromagnetic tubes and the equipment for doing this.]
2019. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 03.05.2019. Číslo patentu: 307842
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA TA ČR(CZ) TG02010056
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode * thin films * tube * plasma
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/307/307842.pdf

Předkládaný vynález spočívá v jednotící myšlence synchronizace kladného napěťového pulzu (U+) přivedeného na elektricky vodivou nebo feromagnetickou trubici (21) a budícího záporného napěťového pulzu (UC) na duté katodě (14) vyvolaného na pozadí vysokofrekvenčního kapacitního výboje.

The invention is based on the unifying idea of synchronizing a positive voltage pulse (U +) applied to an electrically conductive or ferromagnetic tube (21) and an exciting negative voltage pulse (UC) on a hollow cathode (14) induced against a high-frequency capacitive discharge.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0305023